プラチナ4kg容量 高周波誘導炉用セラミックるつぼ

高純度石英セラミックるつぼ
• 金属溶解プロセスに問題なく耐えます（最高  1600°C  （貴金属に適しています）
• 軟化開始温度：  1700°C  ゆっくりとガラス化し始めます
• 短時間のご使用は  2200°C  において可能です（最大  2分  – その際、内面がガラス化します）